许秋将蚀刻失败的基片处理掉，开始思考失败的原因。

一方面可能是蚀刻时间过长；

另一方面可能是胶布与基片之间存在有气泡，或者它们的间隙过大。

再次实验。

许秋又取来三片PEN基片，用3M电工胶布贴好图案后，反复用镊子按压胶布的所在部位，使之与基片尽量贴合。

然后，他在三个新的一次性塑料杯中加入稀盐酸，并倒入两勺锌粉。

等待五秒钟后，他将三片基片各自放入一个塑料杯中，同时按下秒表。

每隔40秒钟，捞出一片基片，随后用去离子水冲洗干净，撕下上面贴有的3M电工胶布。

许秋通过肉眼观察，蚀刻时间为40秒、80秒的基片，均得到了完好的图案。

而蚀刻时间为120秒的基片，ITO图案的边缘有被酸液腐蚀的痕迹，不过相较于上一次实验，痕迹变得不明显。

这说明将胶布与基片紧密贴合，对于防止酸液渗入胶布下面起到了一定的作用。

肉眼可能会骗人，为了确保蚀刻成功，许秋从工具箱中取出万用表，测量基片上被蚀刻部位的导通情况。

将万用表调至导通模式，如果两个红黑表笔之间的电阻很小，万用表就会发出“滴”的声音。

经过检测，三个基片被蚀刻部位都是不导通的，而ITO本身是良好的导体，这表明裸露在外的ITO成功被蚀刻。

因此，蚀刻时间为40秒和80秒的条件都是可行的。

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